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　　近日，坐落于杭州城西科創大走廊浙大成果轉化基地的全國首臺國產商業電子束光刻機 “羲之”，已進入應用測試階段，其精度達到 0.6 納米，比肩國際主流設備，標志著量子芯片研發有了 “中國刻刀”。

　　與常用的 EUV 光刻機不同，“羲之” 以高能電子束為 “筆”，直接在硅基芯片上 “手寫” 電路圖案，無需掩膜版，如同藝術家精雕細琢;而 EUV 光刻機則利用極紫外光，通過掩膜版投影，像工業流水線般實現整片晶圓的快速曝光。

　　性能方面，“羲之” 精度達 0.6 納米，線寬 8 納米，遠超 EUV 主流設備，但每加工一片晶圓需耗費數小時，效率遠低于 EUV 光刻機每小時上百片的產出。

　　應用場景上，“羲之” 專注于高精度、小批量需求，如量子芯片原型、先進封裝等，能大幅縮短國內企業和機構的芯片研發迭代周期，且設備價格比國際同行低 30%，還省去掩膜版成本;EUV 光刻機則擅長 CPU、存儲芯片等大規模消費產品制造。

　　長期以來，歐美壟斷高端光刻設備，“羲之” 的誕生打破了這一局面，為我國半導體研發提供自主可控的關鍵裝備，助力從實驗室到市場的轉化。未來，隨著多電子束技術發展，國產設備在先進封裝領域份額有望進一步提升，推動新能源車、AI 芯片等行業發展。

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